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成膜

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超厚膜の成膜

アルコキシド TEOS/TBOS ゾルゲル法
コロイダルシリカ シランガスとの相違点 ポリシラザン
多層膜化による厚膜形成 多層膜化による応力緩和 密着増強膜による密着力の向上
 
 
 

異形構造への成膜

スピンコート スプレーコート ディップコート
表面張力と濡れ性 分子間引力 遠心力
CVDとCLD 粘度と揮発速度 再溶解と平坦化
 
 
 

3次元電解めっき

パルスめっき 電気力線とめっき形状の関係 ばねと質量体の同時形成
積層金型 レーザー直接描画による3次元化 ロールコーターによる低価格化
スリットコーター めっきの密着性 非消耗型金型と消耗型金型
 
 
 

無電解めっき

無電解ニッケルめっき 無電解銅めっき 無電解金めっき
無電解銀めっき シード層の形成方法 SAM
パラジウム触媒反応 めっき膜の密着性 初期洗浄とめっき膜の品質
 
 
 

ウェットエッチング

SiO2 Si アルミニウム
Al2O3 ニッケル
チタン チタニア エポキシ
 
 
 

無機材料の成膜

SiO2 Al2O3 チタニア
ZnO ITO 酸化スズ
PZT チタン酸バリウム 有機無機ガラス
 
 
 

金属材料の成膜

電解ニッケルめっき 無電解ニッケルめっき 電解銅めっき
無電解銅めっき 電解銀めっき 無電解銀めっき
電解金めっき 無電解金めっき 電解はんだめっき
 
 
 

有機材料の成膜

ノボラック系ポジレジスト ポリイミド系ポジレジスト アクリル系ネガレジスト
エポキシ系ネガレジスト シリコーン系ネガレジスト 薄膜テフロン
ポリビニルアルコール セルロース系樹脂 生分解性樹脂
 
 
 

表面改質

プラズマアッシャー オゾンアッシャー UV/オゾンアッシャー
低ダメージ化 回り込み性の向上 接触角の低角度
オゾンの分解と無害化 オゾンとスプレーコート 原子状酸素の活用